新華社沈陽４月１６日電（記者王瑩）沈陽拓荊科技有限公司承擔的“十一五”科技重大專項“９０－６５ｎｍ等離子體增強化學氣相沉積（ＰＥＣＶＤ）設備研發與應用”項目１５日通過國家重大專項辦公室驗收，標志著我國１２英寸ＰＥＣＶＤ設備實現國產化，填補了國內空白，打破了國際壟斷，提升了我國集成電路產業整體競爭力。
ＰＥＣＶＤ是芯片制造的４種最重要設備之一，一條投資７０億美元的芯片制造生產線，需用約５億美金采購１００多臺ＰＥＣＶＤ設備。其核心技術是利用等離子體增強化學氣相沉積法，在硅晶片表面鍍一層固態薄膜。該技術完全被美日等少數發達國家壟斷，設備進口受到嚴格限制。
“９０－６５ｎｍ ＰＥＣＶＤ設備”是用于１２英寸芯片生產線的專用設備，是當今國際主流薄膜沉積設備。沈陽拓荊科技有限公司前身為中科院沈陽科學儀器股份有限公司ＰＥＣＶＤ事業部，２０１０年成立獨立公司，由“千人計劃”專家姜謙帶領團隊，專項研制１２英寸ＰＥＣＶＤ設備。幾年來相繼攻克了設備平臺設計、薄膜工藝開發、薄膜均勻性控制等關鍵技術，產品通過國內１２英寸集成電路生產線考核驗收，各項指標達到國際水平，成本為國際設備的７０％。目前設備已銷售至中芯國際、蘇州晶方、武漢新芯、華天科技等企業，產品及服務得到用戶的一致認可。
通過項目的實施，拓荊公司申請專利３００項，建立技術標準９項，形成了５項新產品，推動子系統供應商發展相關技術及產品國產化率達到７０％。
|
