| 中國科學(xué)家自主研制成功新型光刻機(jī) 取得專利20余項(xiàng) |
| 來源：新華社 時間：2016/3/24 11:09:57 瀏覽：1829次
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新華社成都３月２３日電（記者李華梁）記者２３日從中科院光電技術(shù)研究所獲悉，該所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)自主研制成功紫外納米壓印光刻機(jī)。
據(jù)中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，該所自主研發(fā)的新型光刻機(jī)，將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術(shù)，與具有低成本、高效率特點(diǎn)的紫外光刻技術(shù)有機(jī)結(jié)合。
記者了解到，這套設(shè)備采用新型納米對準(zhǔn)技術(shù)，將原光刻設(shè)備的對準(zhǔn)精度由亞微米量級提升至納米量級。對準(zhǔn)是光刻設(shè)備三大核心指標(biāo)之一，是實(shí)現(xiàn)功能化器件加工的關(guān)鍵。該所在國家自然基金的連續(xù)資助下，完成基于莫爾條紋的高精度對準(zhǔn)技術(shù)自主研發(fā)，取得專利２０余項(xiàng)。
“該技術(shù)在光刻機(jī)中的成功應(yīng)用突破了現(xiàn)有納米尺度結(jié)構(gòu)加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術(shù)保障。”胡松說。
據(jù)悉，該設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微納流控芯片加工、微納光學(xué)元件、微納光柵、ＮＭＥＭＳ器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備，具有廣闊的應(yīng)用前景，目前已完成初試和小批生產(chǎn)，并已在高校與企業(yè)用戶中推廣。
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