新華社沈陽(yáng)４月１６日電（記者王瑩）沈陽(yáng)拓荊科技有限公司承擔(dān)的“十一五”科技重大專項(xiàng)“９０－６５ｎｍ等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（ＰＥＣＶＤ）設(shè)備研發(fā)與應(yīng)用”項(xiàng)目１５日通過(guò)國(guó)家重大專項(xiàng)辦公室驗(yàn)收，標(biāo)志著我國(guó)１２英寸ＰＥＣＶＤ設(shè)備實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白，打破了國(guó)際壟斷，提升了我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)整體競(jìng)爭(zhēng)力。
ＰＥＣＶＤ是芯片制造的４種最重要設(shè)備之一，一條投資７０億美元的芯片制造生產(chǎn)線，需用約５億美金采購(gòu)１００多臺(tái)ＰＥＣＶＤ設(shè)備。其核心技術(shù)是利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法，在硅晶片表面鍍一層固態(tài)薄膜。該技術(shù)完全被美日等少數(shù)發(fā)達(dá)國(guó)家壟斷，設(shè)備進(jìn)口受到嚴(yán)格限制。
“９０－６５ｎｍ ＰＥＣＶＤ設(shè)備”是用于１２英寸芯片生產(chǎn)線的專用設(shè)備，是當(dāng)今國(guó)際主流薄膜沉積設(shè)備。沈陽(yáng)拓荊科技有限公司前身為中科院沈陽(yáng)科學(xué)儀器股份有限公司ＰＥＣＶＤ事業(yè)部，２０１０年成立獨(dú)立公司，由“千人計(jì)劃”專家姜謙帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)，專項(xiàng)研制１２英寸ＰＥＣＶＤ設(shè)備。幾年來(lái)相繼攻克了設(shè)備平臺(tái)設(shè)計(jì)、薄膜工藝開(kāi)發(fā)、薄膜均勻性控制等關(guān)鍵技術(shù)，產(chǎn)品通過(guò)國(guó)內(nèi)１２英寸集成電路生產(chǎn)線考核驗(yàn)收，各項(xiàng)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際水平，成本為國(guó)際設(shè)備的７０％。目前設(shè)備已銷售至中芯國(guó)際、蘇州晶方、武漢新芯、華天科技等企業(yè)，產(chǎn)品及服務(wù)得到用戶的一致認(rèn)可。
通過(guò)項(xiàng)目的實(shí)施，拓荊公司申請(qǐng)專利３００項(xiàng)，建立技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)９項(xiàng)，形成了５項(xiàng)新產(chǎn)品，推動(dòng)子系統(tǒng)供應(yīng)商發(fā)展相關(guān)技術(shù)及產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化率達(dá)到７０％。
|
